Приводится описание существующих методов автоматического контроля топологии планарных структур изделий микро- и наноэлектроники, других изделий электронной техники, дается их классификация. На основании анализа факторов, влияющих на принятие решения о выборе метода контроля топологии, определяется алгоритм выбора метода в зависимости от характеристик контролируемого объекта и ...

Аваков, С. М. Обнаружение изолированных дефектов при автоматическом контроле оригиналов топологии на фотошаблонах / С. М. Аваков // Машиностроение : республиканский межведомственный сборник научных трудов / Белорусский национальный технический университет ; под ред. Б. М. Хрусталева. – Минск : БНТУ, 2007. – Вып. 23. – С. 344-349.