Repository BNTU - Browsing by Author "Волобуев, В. С."

Now showing items 1-4 of 4

Использование методики Амтхауэра для анализа успеваемости студентов младших курсов

Письменский, П. И.; Дубоделова, Е. В.; Горжанов, В. В.; Волобуев, В. С. (2016)

Использование методики Амтхауэра для анализа успеваемости студентов младших курсов / П. И. Письменский [и др.] // Наука – образованию, производству, экономике : материалы 14-й Международной научно-технической конференции. - Минск : БНТУ, 2016. - Т. 3. - С. 236-237.

2017-08-04
Определение показателей точности методики выполнения измерения удельного электрического сопротивления грунта

Козич, Е. Ю.; Волобуев, В. С.; Горжанов, В. В.; Новосельская, О. А. (БНТУ, 2016)

The results of the calculation of accuracy metrics techniques of performance measurement designed to determine the electrical resistivity of soils to protect those from corrosion the outer surface of underground metal structures: Techn-Dov and tanks (including trench type) of carbon and low alloy steels, power cables with voltage up to 10 kV; communication cables and alarm in a ...

2018-04-13
Оптические характеристики композита, полученного имплантацией ионов серебра в полиэтилентерефталат

Бумай, Ю. А.; Волобуев, В. С.; Валеев, В. Ф.; Долгих, Н. И.; Лукашевич, М. Г.; Хайбуллин, Р. И.; Нуждин, В. И.; Оджаев, В. Б. (ГНУ "Институт физики им. Б.И. Степанова Национальной академии наук Беларуси", 2012)

Имплантацией ионов серебра с энергией 30 кэВ в интервале доз D = 1 • 10'^—1.5 • 10'^ см'^ при плотности ионного тока j = 4.0 мкА/см^ в пленки полиэтилентерефталата получены металлополимерные композиты. В диапазоне 190—1100 им изучены спектральные зависимости коэффициентов отражения, пропускания и экстинкции. Обнаружено усиление полос отражения при X= 205 нм и Х= 260 нм и падении ...

2013-12-12
Электрофизические свойства имплантированных ионами металлов фоторезистов в СВЧ диапазоне

Волобуев, В. С.; Горжанов, В. В.; Олешкевич, А. Н. (БНТУ, 2016)

The studies by EPR contactless electrical properties of nanocomposites photoresist in the microwave range of the following results: the maximum ohmic losses are observed for samples at 1.0 × 1017 cm-2, for nickel ions, and iron ions; detected conductivity anisotropy implanted films in the magnetic field.

2018-04-18