Now showing items 1-1 of 1

    • 面向芯片稀土纳米氧化铈化学机械抛光液的研发 

      赵朗 (БНТУ, 2022)
      Отечественный раствор оксида церия для полировки обладает рядом проблем, таких как неравномерная форма абразивных частиц, серьезная агломерация, загрязнение ионами металлов и плохие характеристики полировки, что не может удовлетворить требования к полировке чипов. Ожидается, что путем разработки новой технологии изготовления полировального порошка и нового типа экологически чистой ...
      2022-08-02