Show simple item record

dc.contributor.authorМанего, С. А.ru
dc.coverage.spatialМинскru
dc.date.accessioned2022-02-02T08:10:13Z
dc.date.available2022-02-02T08:10:13Z
dc.date.issued2021
dc.identifier.citationМанего, С. А. Исследование влияния физико-технологических факторов на структурное совершенство приповерхностных слоев InP = Investigation of the influence of physical and technological factors on the structural perfection of near-surface layers InP / С. А. Манего // Приборостроение-2021 : материалы 14-й Международной научно-технической конференции, 17-19 ноября 2021 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: О. К. Гусев (председатель) [и др.]. – Минск : БНТУ, 2021. – С. 302-304.ru
dc.identifier.urihttps://rep.bntu.by/handle/data/109550
dc.description.abstractИсследовано влияние физико-технологических факторов на структурное совершенство приповерхностных слоев подложек фосфида индия. Анализ влияния предэпитаксиального процесса подготовки подложек InP проводился методом дифракции быстрых электронов на отражения и по измерению интегральной интенсивности длинноволновой полосы (1,08 эВ) и коротковолновой полосы (1,41 эВ) люминесценции. Установлено, что минимальные нарушения приповерхностных слоев наблюдались при парциальных давлениях фосфина (3–5)·102 Па, в температурном диапазоне 400–960 К.ru
dc.language.isoruru
dc.publisherБНТУru
dc.titleИсследование влияния физико-технологических факторов на структурное совершенство приповерхностных слоев InPru
dc.title.alternativeInvestigation of the influence of physical and technological factors on the structural perfection of near-surface layers InPru
dc.typeWorking Paperru
local.description.annotationThe influence of physical and technological factors on the structural perfection of the near-surface layers of indium phosphide substrates is investigated. The influence of the preepitaxial process of preparation of InP substrates was analyzed by fast electron diffraction on reflections and by measuring the integral intensity of the long-wavelength band (1.08 eV) and short-wavelength band (1.41 eV) luminescence. It was found that minimal disturbances of the near-surface layers were observed at partial pressures of phosphine (3–5)·102 Pa, in the temperature range 400–960 K.ru


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record