dc.contributor.author | Бринкевич, Д. И. | ru |
dc.contributor.author | Просолович, В. С. | ru |
dc.contributor.author | Черный, В. В. | ru |
dc.contributor.author | Вабищевич, С. А. | ru |
dc.contributor.author | Вабищевич, Н. В. | ru |
dc.coverage.spatial | Минск | ru |
dc.date.accessioned | 2022-12-28T10:38:23Z | |
dc.date.available | 2022-12-28T10:38:23Z | |
dc.date.issued | 2022 | |
dc.identifier.citation | Индентирование облученных электронами пленок позитивных новолачных фоторезистов на кремнии = Indentation of electron irradiated positive novolac photoresists films on silicon / Д. И. Бринкевич [и др.] // Приборостроение-2022 : материалы 15-й Международной научно-технической конференции, 16-18 ноября 2022 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: О. К. Гусев (председатель) [и др.]. – Минск : БНТУ, 2022. – С. 144-145. | ru |
dc.identifier.uri | https://rep.bntu.by/handle/data/124453 | |
dc.description.abstract | Методом микроиндентирования исследованы прочностные и адгезионные свойства пленок диазохинон-новолачных позитивных фоторезистов S1813, SPR-700 и ФП9120 толщиной 1,2–1,8 мкм, облученных электронами c энергией 5 МэВ флюенсом 3·1016 см-2. Показано, что при облучении микротвердость фоторезистивных пленк возрастает, причем наиболее существенно в SPR-700. | ru |
dc.language.iso | ru | ru |
dc.publisher | БНТУ | ru |
dc.title | Индентирование облученных электронами пленок позитивных новолачных фоторезистов на кремнии | ru |
dc.title.alternative | Indentation of electron irradiated positive novolac photoresists films on silicon | ru |
dc.type | Working Paper | ru |
local.description.annotation | The strength and adhesive properties of films of diazoquinone-novolac positive photoresists S1813, SPR-700 and FP9120 with a thickness of 1.2–1.8 microns irradiated with electrons with an energy of 5 MeV with a fluence of 3ꞏ1016 cm-2 were studied by microindentation. It is shown that under irradiation, the microhardness of photoresistive films increases, and most significantly in SPR-700. | ru |