| dc.contributor.author | Телеш, Е. В. | ru |
| dc.contributor.author | Гутенко, Н. Д. | ru |
| dc.contributor.author | Данилович, С. В. | ru |
| dc.coverage.spatial | Минск | ru |
| dc.date.accessioned | 2023-12-21T07:32:18Z | |
| dc.date.available | 2023-12-21T07:32:18Z | |
| dc.date.issued | 2023 | |
| dc.identifier.citation | Телеш, Е. В. Ионно-пучковый синтез прозрачных медных электродов = Ion beam synthesis of transparent copper electrodes / Е. В. Телеш, Н. Д. Гутенко, С. В. Данилович // Приборостроение-2023 : материалы 16-й Международной научно-технической конференции, 15-17 ноября 2023 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: О. К. Гусев (пред.) [и др.]. – Минск : БНТУ, 2023. – С. 278-279. | ru |
| dc.identifier.uri | https://rep.bntu.by/handle/data/138527 | |
| dc.description.abstract | Исследовано влияние температуры подложки на характеристики прозрачных медных электродов, полученных прямым осаждением из ионных пучков. Установлено, что сопротивление снизилось почти в 2 раза при Тп ~ 500 К. Это связано с ростом размеров зерен меди, что подтверждено исследованием микроструктуры пленок. Нагрев подложки способствовал отжигу дефектов, неоднородностей, десорбции примесей, что привело к улучшению оптических параметров покрытий Оптимальная температура подложки для формирования прозрачных медных электродов с высокой прозрачностью и низким сопротивлением должна составлять 520–540 К. | ru |
| dc.language.iso | ru | ru |
| dc.publisher | БНТУ | ru |
| dc.title | Ионно-пучковый синтез прозрачных медных электродов | ru |
| dc.title.alternative | Ion beam synthesis of transparent copper electrodes | ru |
| dc.type | Working Paper | ru |
| local.description.annotation | The effect of substrate temperature on the characteristics of transparent copper electrodes obtained by direct deposition from ion beams was studied. It was found that the resistivity decreased by almost 2 times at Ts ~ 500 K. This is due to an increase in the size of copper grains, which was confirmed by studying the microstructure of the films. Heating the substrate contributed to the annealing of defects, inhomogeneities, and desorption of impurities, which led to an improvement in the optical parameters of the coatings. The optimal substrate temperature for the formation of transparent copper electrodes with high transparency and low resistance should be 520–540 K. | ru |
