Прочностные свойства пленок диазохинонноволачного фоторезиста ФП9120, имплантированных ионами серебра
Another Title
Strength properties of diazoquinonenovolac photoresist FP9120 films implanted with silver ions
Bibliographic entry
Прочностные свойства пленок диазохинонноволачного фоторезиста ФП9120, имплантированных ионами серебра = Strength properties of diazoquinonenovolac photoresist FP9120 films implanted with silver ions / Д. И. Бринкевич [и др.] // Приборостроение-2023 : материалы 16-й Международной научно-технической конференции, 15-17 ноября 2023 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: О. К. Гусев (пред.) [и др.]. – Минск : БНТУ, 2023. – С. 290-291.
Abstract
Методом микроиндентировния исследованы пленки позитивного диазохинонноволачного фоторезиста ФП9120 толщиной 1,8 мкм, имплантированные ионами Ag+ c энергией 30 кэВ в интервале доз 2,5 1016–1,0 1017 cм–2 на имплантаторе ИЛУ-3. Сформированный при ионной имплантации Ag+ карбонизированный слой подавляет эффект восстановления отпечатка при индентировании. После длительного хранения (более 3 лет) пленка изменяет свои прочностные свойства и ведет себя как твердое (непластичное) тело, что обусловлено сшиванием молекул фенолформальдегидной смолы, снижающим подвижность молекул в условиях внешнего воздействия.
Abstract in another language
Films of positive diazoquinone novolac photoresist FP9120 with a thickness of 1.8 μm, were implanted by Ag+ ions with an energy of 30 keV in the dose range of 2.5 · 1016–1.0 · 1017 cm–2 on an ILU-3 implanter were studied using the microindentation method. The carbonized layer formed during ion implantation of Ag+ suppresses the effect of indentation restoration. After long-term storage (more than 3 years), the film changes its strength properties and behaves like a solid (non-plastic) body, which is due to the cross-linking of phenol-formaldehyde resin molecules, which reduces the mobility of molecules under external influences.