Прочностные свойства пленок диазохинонноволачного фоторезиста ФП9120, имплантированных ионами серебра
![Thumbnail](/bitstream/handle/data/138533/290-291.pdf.jpg?sequence=2&isAllowed=y)
Date
2023Publisher
Another Title
Strength properties of diazoquinonenovolac photoresist FP9120 films implanted with silver ions
Bibliographic entry
Прочностные свойства пленок диазохинонноволачного фоторезиста ФП9120, имплантированных ионами серебра = Strength properties of diazoquinonenovolac photoresist FP9120 films implanted with silver ions / Д. И. Бринкевич [и др.] // Приборостроение-2023 : материалы 16-й Международной научно-технической конференции, 15-17 ноября 2023 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: О. К. Гусев (пред.) [и др.]. – Минск : БНТУ, 2023. – С. 290-291.
Abstract
Методом микроиндентировния исследованы пленки позитивного диазохинонноволачного фоторезиста ФП9120 толщиной 1,8 мкм, имплантированные ионами Ag+ c энергией 30 кэВ в интервале доз 2,5 1016–1,0 1017 cм–2 на имплантаторе ИЛУ-3. Сформированный при ионной имплантации Ag+ карбонизированный слой подавляет эффект восстановления отпечатка при индентировании. После длительного хранения (более 3 лет) пленка изменяет свои прочностные свойства и ведет себя как твердое (непластичное) тело, что обусловлено сшиванием молекул фенолформальдегидной смолы, снижающим подвижность молекул в условиях внешнего воздействия.
Abstract in another language
Films of positive diazoquinone novolac photoresist FP9120 with a thickness of 1.8 μm, were implanted by Ag+ ions with an energy of 30 keV in the dose range of 2.5 · 1016–1.0 · 1017 cm–2 on an ILU-3 implanter were studied using the microindentation method. The carbonized layer formed during ion implantation of Ag+ suppresses the effect of indentation restoration. After long-term storage (more than 3 years), the film changes its strength properties and behaves like a solid (non-plastic) body, which is due to the cross-linking of phenol-formaldehyde resin molecules, which reduces the mobility of molecules under external influences.