dc.contributor.author | Юревич, С. В. | |
dc.contributor.author | Залесский, В. Г. | |
dc.contributor.author | Поболь, И. Л. | |
dc.contributor.author | Хома, М. Ю. | |
dc.coverage.spatial | Минск | ru |
dc.date.accessioned | 2019-04-18T09:15:19Z | |
dc.date.available | 2019-04-18T09:15:19Z | |
dc.date.issued | 2018 | |
dc.identifier.citation | Морфология поверхности ниобиевых покрытий, полученных на медных подложках электронно-лучевым напылением = Surface morphology of niobium coatings obtained by electron beam physical vapour deposition onto the copper substrates / С. В. Юревич [и др.] // Современные методы и технологии создания и обработки материалов : материалы XIII Международной научно-технической конференции, 12-14 сентября 2018 г. [Электронный ресурс]. – Минск : [б. и.], 2018. | ru |
dc.identifier.uri | https://rep.bntu.by/handle/data/51931 | |
dc.description.abstract | Исследована морфология ниобиевых покрытий, полученных вакуумным электронно-лучевым термическим напылением на медных подложках с различной шероховатостью. Установлено, что при напылении покрытия толщиной 0,3 мкм на подложки с различным исходным состоянием шероховатость поверхности покрытия соответствует шероховатости подложки. При напылении покрытия 1 мкм на подложку с Rz 0,237–0,447 мкм и Ra 0,039–0,085 мкм верхняя граница диапазона значений Rz снижается в 1,2–1,5 раза, Ra – в 2 раза. | ru |
dc.language.iso | ru | ru |
dc.title | Морфология поверхности ниобиевых покрытий, полученных на медных подложках электронно-лучевым напылением | ru |
dc.title.alternative | Surface morphology of niobium coatings obtained by electron beam physical vapour deposition onto the copper substrates | ru |
dc.type | Working Paper | ru |
local.description.annotation | The surface morphology of the niobium coatings obtained by electron beam physical vapour deposition onto the copper substrates with various roughness is investigated. When ≈ 0.3 μm thickness coating is deposited on substrates with different surface condition, the roughness of the coating repeats the substrate roughness. When the ≈1 μm coating is deposited on the substrate with Rz 0.237–0.447 μm and Ra 0.039–0.085 μm, the upper limit of the Rz value range decreases in 1.2–1.5 times, Ra – in imes. | ru |