Установка для бесконтактного контроля однородности распределения параметров ионно-легированных и диффузионных слоев на полупроводниковых пластинах диаметром до 200 мм
dc.contributor.author | Свистун, А. И. | ru |
dc.contributor.author | Воробей, Р. И. | ru |
dc.contributor.author | Гусев, О. К. | ru |
dc.contributor.author | Жарин, А. Л. | ru |
dc.contributor.author | Пантелеев, К. В. | ru |
dc.contributor.author | Петлицкий, А. Н. | ru |
dc.contributor.author | Пилипенко, В. А. | ru |
dc.contributor.author | Тявловский, А. К. | ru |
dc.contributor.author | Тявловский, К. Л. | ru |
dc.coverage.spatial | Минск | ru |
dc.date.accessioned | 2020-01-03T08:11:53Z | |
dc.date.available | 2020-01-03T08:11:53Z | |
dc.date.issued | 2019 | |
dc.identifier.citation | Установка для бесконтактного контроля однородности распределения параметров ионно-легированных и диффузионных слоев на полупроводниковых пластинах диаметром до 200 мм / А. И. Свистун [и др.] // Приборостроение-2019 : материалы 12-й Международной научно-технической конференции, 13–15 ноября 2019 года, Минск, Республика Беларусь / редкол.: О. К. Гусев (председатель) [и др.]. – Минск : БНТУ, 2019. – С. 98-100. | ru |
dc.identifier.uri | https://rep.bntu.by/handle/data/62087 | |
dc.language.iso | ru | ru |
dc.publisher | БНТУ | ru |
dc.title | Установка для бесконтактного контроля однородности распределения параметров ионно-легированных и диффузионных слоев на полупроводниковых пластинах диаметром до 200 мм | ru |
dc.type | Working Paper | ru |