Методами растровой электронной микроскопии и комбинационного рассеяния света исследованы структура, элементный состав тонких пленок Ti – Al – C – N до и после обработки интенсивным излучением рубинового лазера (λ = 0,69 мкм) при плотностях энергии 0,5–1,3 Дж/см2. Исследуемые тонкопленочные покрытия формировались на кремниевых подложках методом реактивного магнетронного распыления ...