Формирование глубинных наноразмерных слоев силицидов и диэлектриков в кремнии
xmlui.dri2xhtml.METS-1.0.item-supervisor
Date
2010Publisher
xmlui.dri2xhtml.METS-1.0.item-identifier-udc
621.315.592Another Title
отчет о НИР (заключительный) : 06-94
Bibliographic entry
Формирование глубинных наноразмерных слоев силицидов и диэлектриков в кремнии : отчет о НИР (заключительный) : 06-94 / Белорусский национальный технический университет; рук. Францкевич А.В., исполн. Мазаник А.В., исполн. Федотов А.К. [и др.]. – Минск, 2010. – 64 с. – Библиогр.: с. 4. - № ГР 20062993
Abstract
Объектом исследования являются пластины кремния, содержащие глубинные слои и иные дефекты, сформированные посредством имплантации и последующего геттерирования на них примесей.
Цель работы – разработка принципов формирования областей с особыми свойствами в пластинах кремния посредством имплантации водорода, гелия или аргона и последующей плазменной обработки.
Основные методы исследования: резерфордовское обратное рассеяние, сканирующая электронная микроскопия, масс-спектроскопия вторичных ионов, измерение времени жизни неравновесных носителей, спектроскопия комбинационного рассеяния.
View/ Open
Collections
- Отчеты о НИОКТР[949]