Browsing by Author "Бурмаков, А. П."

Now showing items 1-7 of 7

    • Исследование структуры, элементного состава и свойств нанокристаллических покрытий на основе нитрида титана, нанесенных методом контролируемого магнетронного распыления 

      Бурмаков, А. П.; Комаров, Ф. Ф.; Пилько, В. В. (БНТУ, 2011)
      Бурмаков, А. П. Исследование структуры, элементного состава и свойств нанокристаллических покрытий на основе нитрида титана, нанесенных методом контролируемого магнетронного распыления / А. П. Бурмаков, Ф. Ф. Комаров, В. В. Пилько // Металлургия : республиканский межведомственный сборник научных трудов. – Минск : БНТУ, 2011. – Вып. 33, ч. 2. - С. 96-101.
      2016-04-01

    • Метод формирования бинарных нитридов Ti-Al-N реактивным магнетронным распылением с оптическим управлением 

      Зайков, В. А.; Комаров, Ф. Ф.; Бурмаков, А. П.; Климович, И. М.; Кулешов, В. Н.; Людчик, О. Р. (БНТУ, 2014)
      Основной задачей настоящей работы является определение параметров осаждения, позволяющих достичь высокой воспроизводимости химического состава пленок Ti-Al-N и их оптимальных физических свойств: твердости износостойкости и др.
      2015-03-23

    • Получение покрытий на основе оксида тантала с электретными свойствами на титановых имплантатах 

      Багаев, С. И.; Волочко, А. Т.; Марков, Г. В.; Смягликов, И. П.; Бурмаков, А. П.; Кулешов, В. Н. (БНТУ, 2017)
      Получение покрытий на основе оксида тантала с электретными свойствами на титановых имплантатах / С. И. Багаев [и др.] // Наука – образованию, производству, экономике : материалы 15-й Международной научно-технической конференции. - Минск : БНТУ, 2017. - Т. 1. - С. 452.
      2018-02-27

    • Система контроля расхода газов для применения в технологии реактивного магнетронного распыления 

      Климович, И. М.; Кулешов, В. Н.; Зайков, В. А.; Бурмаков, А. П.; Комаров, Ф. Ф.; Людчик, О. Р. (БНТУ, 2015)
      Неустойчивость параметров разряда и химического состава потоков частиц, поступающих на подложку, в переходных режимах реактивного магнетронного распыления приводит к невоспроизводимости состава покрытий от процесса к процессу. Целью настоящей работы являлась разработка системы контроля расхода газа, позволяющая стационарно поддерживать неравновесное состояние магнетронного разряда ...
      2015-12-30

    • Система стабилизации процесса реактивного магнетронного распыления 

      Бурмаков, А. П.; Кулешов, В. Н.; Столяров, А. В. (БНТУ, 2018)
      Пленочные покрытия сегодня позволяют создать большое количество разнообразных структур в электронике, микроэлектронике, оптике, архитектуре и строительстве. Лидирующими технологиями в этой области являются магнетронные технологии осаждения. Проблемой магнетронных методов осаждения является недостаточная воспроизводимость состава и свойств покрытий, обусловленная неустойчивостью ...
      2018-06-18

    • Управляемое реактивное магнетронное нанесение TiAlN покрытий 

      Климович, И. М.; Бурмаков, А. П.; Зайков, В. А.; Кулешов, В. Н.; Романов, И. А. (БНТУ, 2016)
      Управляемое реактивное магнетронное нанесение TiAlN покрытий / И. М. Климович [и др.] // Приборостроение-2016 : материалы 9-й международной научно-технической конференции, Минск, 23-25 ноября 2016 г. / Белорусский национальный технический университет ; редкол.: О. К. Гусев [и др.]. – Минск, 2016. – С. 330-332.
      2017-03-28

    • Установка для исследования параметров магнетронной и лазерной плазмы 

      Бурмаков, А. П.; Зайков, В. А.; Комаров, Ф. Ф.; Людчик, О. Р.; Солодухо, Д. А. (БНТУ, 2012)
      В работе рассмотрены различные модификации установки для импульсного лазерного и магнетронного осаждения тонкопленочных структур с контролируемыми условиями формирования плазменного потока и возможностью исследования параметров плазмы. Предложены варианты для совместного и раздельного осаждения слоев. Разработанная установка расширяет энергетический, зарядовый и элементный состав ...
      2013-02-05