Browsing by Author "Климович, И. М."

Now showing items 1-11 of 11

    • Автоматизированный метод регистрации ВАХ двухполюсников с помощью цифрового осциллографа В-422 

      Романов, И. А.; Зайков, В. А.; Климович, И. М. (БНТУ, 2014)
      В настоящей работе предлагается автоматизированный метод регистрации ВАХ двухполюсников, рассчитанный на широкий спектр ПП или приборных структур.
      2015-03-17

    • Влияние потенциала смещения на структуру и механические свойства покрытий Ti – Al – C – N 

      Климович, И. М.; Зайков, В. А.; Комаров, Ф. Ф.; Кулешов, А. К.; Баран, Л. В. (2018)
      Исследовано влияние потенциала смещения подложки на состав, структуру и коэффициент трения наноструктурных покрытий Ti – Al – C – N. Установлено, что с ростом потенциала смещения происходит уменьшение соотношения между интенсивностями рефлексов I(111)/I(200). При увеличении потенциала смещения от –90 до –200 В структура покрытия изменяется от столбчатой к мелкозернистой. Обнаружено, ...
      2019-04-22

    • Влияние технологических параметров процесса осаждения на свойства защитных наноструктурированных покрытий Ti-Al-N 

      Климович, И. М.; Пилько, В. В.; Зайков, В. А. (БНТУ, 2016)
      Климович, И. М. Влияние технологических параметров процесса осаждения на свойства защитных наноструктурированных покрытий Ti-Al-N / И. М. Климович, В. В. Пилько, В. А. Зайков // Новые направления развития приборостроения : материалы 9-й международной научно-технической конференции молодых ученых и студентов, Минск, 20–22 апреля 2016 г. : в 2 т. / Белорусский национальный технический ...
      2016-09-26

    • Метод формирования бинарных нитридов Ti-Al-N реактивным магнетронным распылением с оптическим управлением 

      Зайков, В. А.; Комаров, Ф. Ф.; Бурмаков, А. П.; Климович, И. М.; Кулешов, В. Н.; Людчик, О. Р. (БНТУ, 2014)
      Основной задачей настоящей работы является определение параметров осаждения, позволяющих достичь высокой воспроизводимости химического состава пленок Ti-Al-N и их оптимальных физических свойств: твердости износостойкости и др.
      2015-03-23

    • Применение сверхтвёрдых, износостойких, наноструктурированных, композиционных покрытий на основе тенарных нитридов Ti-Zr-N в прикладных задачах приборостроения 

      Климович, И. М.; Пилько, В. В. (БНТУ, 2014)
      Климович, И. М. Применение сверхтвердых, износостойких, наноструктурированных, композиционных покрытий на основе тенарных нитридов Ti-Zr-N в прикладных задачах приборостроения / И. М. Климович, В. В. Пилько // Новые направления развития приборостроения : материалы 7-й Международной студенческой научно-технической конференции, 23-25 апреля 2014 г. / редкол. О. К. Гусев [и др.]. – ...
      2014-09-23

    • Реактивное магнетронное нанесение твердых нанокомпозитных покрытий TiAlN с использованием оптического метода контроля 

      Климович, И. М.; Пилько, В. В.; Романов, И. А. (БНТУ, 2014)
      Климович, И. М. Реактивное магнетронное нанесение твердых нанокомпозитных покрытий TiAlN с использованием оптического метода контроля / И. М. Климович, В. В. Пилько, И. А. Романов // Новые направления развития приборостроения : материалы 7-й Международной студенческой научно-технической конференции, 23-25 апреля 2014 г. / редкол. О. К. Гусев [и др.]. – Минск, 2014. – С. 277.
      2014-09-23

    • Система контроля расхода газов для применения в технологии реактивного магнетронного распыления 

      Климович, И. М.; Кулешов, В. Н.; Зайков, В. А.; Бурмаков, А. П.; Комаров, Ф. Ф.; Людчик, О. Р. (БНТУ, 2015)
      Неустойчивость параметров разряда и химического состава потоков частиц, поступающих на подложку, в переходных режимах реактивного магнетронного распыления приводит к невоспроизводимости состава покрытий от процесса к процессу. Целью настоящей работы являлась разработка системы контроля расхода газа, позволяющая стационарно поддерживать неравновесное состояние магнетронного разряда ...
      2015-12-30

    • Система спектрального контроля процесса очистки изделий ионным источником “Радикал” 

      Климович, И. М.; Пилько, В. В.; Зайков, В. А. (БНТУ, 2013)
      Климович, И. М. Система спектрального контроля процесса очистки изделий ионным источником “Радикал” / И. М. Климович, В. В. Пилько, В. А. Зайков // Новые направления развития приборостроения : материалы 6-й Международной студенческой научно-технической конференции, 24-26 апреля 2013 г. / редкол.: О. К. Гусев [и др.]. – Минск : БНТУ, 2013. – С. 23.
      2022-10-24

    • Структурные изменения в покрытиях Ti – Al – C – N при лазерном отжиге 

      Зайков, В. А.; Ивлев, Г. Д.; Климович, И. М.; Людчик, О. Р.; Вишневский, А. И.; Гусакова, С. В.; Королик, О. В. (2018)
      Методами растровой электронной микроскопии и комбинационного рассеяния света исследованы структура, элементный состав тонких пленок Ti – Al – C – N до и после обработки интенсивным излучением рубинового лазера (λ = 0,69 мкм) при плотностях энергии 0,5–1,3 Дж/см2. Исследуемые тонкопленочные покрытия формировались на кремниевых подложках методом реактивного магнетронного распыления ...
      2019-04-18

    • Твердые покрытия Ti-Al-N, полученные контролируемым магнетронным нанесением 

      Климович, И. М.; Романов, И. А.; Зайков, В. А. (БНТУ, 2015)
      Климович, И. М. Твердые покрытия Ti-Al-N, полученные контролируемым магнетронным нанесением / И. М. Климович, И. А. Романов, В. А. Зайков // Новые направления развития приборостроения : материалы 8-й Международной научно-технической конференции молодых ученых и студентов / редкол.: О. К. Гусев [и др.]. – Минск : БНТУ, 2015. – С. 274.
      2022-08-24

    • Управляемое реактивное магнетронное нанесение TiAlN покрытий 

      Климович, И. М.; Бурмаков, А. П.; Зайков, В. А.; Кулешов, В. Н.; Романов, И. А. (БНТУ, 2016)
      Управляемое реактивное магнетронное нанесение TiAlN покрытий / И. М. Климович [и др.] // Приборостроение-2016 : материалы 9-й международной научно-технической конференции, Минск, 23-25 ноября 2016 г. / Белорусский национальный технический университет ; редкол.: О. К. Гусев [и др.]. – Минск, 2016. – С. 330-332.
      2017-03-28